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光刻自动化是当前国内外发展集成电路工艺设备的重要趋势.本文通过对二个平面刚体的对(淮十)原理的分析,给出对(淮十)方程的一般形式.文中对光电信息的获得与处理,按宽度调制的断续调节系统,硅片高反差标记符号等方面进行了理论分析,指出了解决问题的途径.文中对系统的误差和实验结果也作了分析. 相似文献
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在大屏幕显示系统中用ＶｉｓｕａｌＢａｓｉｃ３．０实现了微机与８０３１单片机之间的双机通讯．描述了大屏幕显示系统的硬件组成及工作原理，并较详细地阐述了ＰＣ机通讯程序和单片机通讯程序的设计方法 相似文献
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曝光系统是光刻机的重要组成部分,其性能的好坏也是光刻机性能的主要指标.本文阐述了光源的选择和镇流元件的计算,推导了解决曝光均匀性的一般公式,并指出光学系统象差可以作为改善曝光均匀性的一个参数来考虑.本系统已成功地用在具有自动对準系统的光刻机上. 相似文献
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