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电沉积Ni-W纳米梯度镀层 总被引：8，自引：0，他引：8
首次采用电沉积法制备Ｎｉ－Ｗ纳米结构梯度镀层。ＳＥＭ能谱测试及Ｘ－射线衍射测试表明,沿镀层生长方向,钨含量逐渐增加,晶粒尺寸由１０．２７ｎｍ递减到１．５６ｎｍ,晶格畸变度逐渐增大,镀层由纳米晶结构逐步过度到非晶态结构。结构呈梯度分布,故称为纳米结构梯度镀层。 相似文献
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电沉积纳米金属多层膜研究 总被引：10，自引：0，他引：10
分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu/Ni多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜（SEM）确定镀层结构。通过对比,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点。 相似文献
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