镍-磷-Si3N4纳米粒子复合镀工艺研究

通过正交试验法确定了镍-磷-Si3N4纳米粒子复合镀最佳施镀工艺,对正交试验进行了详细的分析,从而确定了镀层最佳施镀工艺：纳米粒子含量为1．0g／L,施镀温度为82℃,镀液pH=4．8。     

重掺杂硅中的氧沉淀

采用X射线双晶衍射法对重掺硼、重掺锑样品中的氧沉淀行为进行了研究，分析了热处理条件、掺杂剂种类对重掺硅中氧沉淀的影响．实验结果表明：由于氧沉淀诱发缺陷间的相互作用、氧沉淀的重溶以及氧的外扩散等原因，在长时间高温热处理时，晶片表面完整性得到改善；重掺硼样品中的氧沉淀较重掺锑样品中的氧沉淀明显．实验中还观察到了氧沉淀重溶现象，进一步验证了理论分析结果．