两跨四支撑轴系转子低速动平衡实验研究

针对两跨四支撑汽轮机组、压缩机组等轴系中各跨转子动平衡合格,但安装试车后仍发生轴系不平衡振动故障的问题,研究各跨转子残余不平衡量耦联效应对轴系转子振动特性的影响。搭建了两跨四支撑（2N支撑）轴系实验台,模拟开机启动过程,实验对比了针对轴系转子系统的两种低速动平衡方式。实验结果表明,对两跨四支撑转子整体进行组合的低速动平衡效果优于对转子1、2单独进行低速动平衡。     

一种新型多官能度乙烯基醚树脂的制备及在光刻负胶中的应用

以苯乙烯,2-异氰酸甲基丙烯酸酯(IEMA),以及乙二醇单乙烯基醚(EGME)等为原料,分两步合成了一种主链为聚苯乙烯结构的多乙烯基醚(VEs)树脂(PSIM-VE).通过测定该树脂的红外光谱、核磁氢谱及核磁碳谱,确定了其分子结构式.测定了该树脂的紫外透光性,并且研究了基于该树脂的紫外光刻负胶以甲苯及四氢呋喃为溶剂时的成膜性及紫外光固化性能.通过接触式光刻工艺,在光刻胶膜层上得到了4μm周期的光栅结构.     

基于纳米压印技术制备200nm周期金自支撑透射光栅

采用纳米压印技术作为制备亚微米周期光栅图案的核心技术,并结合反应离子刻蚀,电子束蒸镀,微电镀,紫外光刻,湿法刻蚀成功制作了面积为5 mm×8 mm、周期为200 nm、占空比近1∶1的大面积金自支撑透射光栅.首先利用紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀在高分子胶层上复制出石英模板上的纳米光栅结构,然后用微电镀技术制备出金光栅.为了获得具有较深槽深的光栅图形,采用了纳米压印双层胶工艺体系.此工艺利用了纳米压印技术分辨率高、效率高的优点,并且可以制备出剖面陡直、对比度高的高分辨率纳米光栅线条.最后用紫外光刻,微电镀和湿法腐蚀制作出支撑结构,获得金自支撑透射光栅.