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利用双层吸收膜模型,采用消光式椭圆偏振仪,对用MOCVD方法生长的(AlxGa1-x)yIn1-yP(本征)、(AlxGa1-x)yIn1-yP(掺Mg)和(AlxGa1-x)yIn1-yP(掺Si)3个样品及它们的表面氧化膜的光学参数进行了测量和计算,并对其结果加以讨论.另外还在室温下对(AlxGa1-x)yIn1-yP(本征)表面氧化膜的生长速率及其厚度进行研究,并得到膜厚与时间的线性关系曲线 相似文献
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