旋转体中的平衡因素分析

本文分析了在旋转体中影响平衡的因素,介绍了调节平衡的基本方法,提出了在旋转体中要尽可能减少由于平衡因素造成的对产品质量的影响。     

光电式光栅刻划机干涉控制系统及精度分析

采用莫尔条纹法对光栅干涉仪在工作过程中产生的干涉条纹进行分析,利用莫尔条纹的平均误差作用减少光栅刻划过程中的局部误差。实验研究表明,该方法控制光栅刻划机刻划出300l/mm和600l/mm的光栅,受环境影响小、结构简单且装调方便。