放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面杂质的清洗效果

半导体表面杂质的清洗工艺是半导体器件生产中关键的工艺之一,它对器件性能有很大影响.目前普遍使用腐蚀性强的硝酸、盐酸、硫酸、过氧化氢和氢氧化铵等酸碱,以及毒性较大的甲苯、四氯化碳、丙酮等有机溶剂进行清洗,产生大量废水、废气,以致损害工作人员健康,造成环境污染.此外,这些高纯试剂价格较贵,清洗成本高.因此,近年来有关单位在这方面进行了探索,期望能找到一种新的半导体清洗剂,以改善这种状况.     

新型清洗剂“811”、“812”清洗半导体表面杂质的机理

用放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面沾污杂质的清洗效果表明,用811、812清洗半导体表面沾污的蜡和油脂等有机杂质效果很好,用812清洗半导体表面沾污的铁、金、铬、钠等金属杂质都能得到很好的效果,清洗效率均可大于97%,甚至大于99.9%,在某些条件下比用酸、碱清洗还要高一些.有关工厂在生产中应用811、812作为半导体清洗剂,其半导体器件产品的合格率比用酸、碱和有机溶剂的清洗还有所提高.清洗机理是一个十分重要的问题.为什么清洗效率如此之高呢?我们用多种方法研究了811、812对半导体硅片和锗片表面沾污杂质的清洗机理.结果表明,其清洗效率之所以如此之高,是由于811、812是一种表面活性剂,812既是表面活性剂又是较强