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迈进二十一世纪的集成电路 总被引:3,自引:0,他引:3
吴德馨 《世界科技研究与发展》1999,21(4):1-9
文章讨论了进入二十一世纪微电子科学技术所面临的诸多问题:超微细加工新技术,高电导率金属和低介电常数介质的互连技术,SiCMOS工艺的限制以及GaAs集成电路的崛起等。 相似文献
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