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共有1条查询结果,搜索用时 535 毫秒
1
1.
新型电子清洗工艺对半导体表面的清洗效果
曹宝成
马洪磊
罗升旭
刘可辛
于新好
杜信荣
宗福建
李玉香
计锋
《山东大学学报(理学版)》
1995,(2)
报告了一种新型电子清洗工艺.该工艺采用了被命名为DZ—1和DZ—2的两种新型电子清洗剂分别与95%体积的去离子水配制成清洗液,先后用超声波清洗.用高频C—V测试和原子吸收光谱分析研究了清洗效果.用该工艺清洗过的硅片生长的二氧化硅层中固定电荷密度在1010cm-2数量级;去重金属离子能力与常规CMOS/SOS栅氧化工艺相当.新型清洗工艺具有操作简单、价格低廉、且无毒、无腐蚀和对人体无危害、对环境无污染的优点.
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