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1.
本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。磁控溅射离子镀 铝膜不是简单的单质外接铝膜,而是铜和铝组成的合金膜。膜的相组成主要是由基板 负偏压所决定的。在一定的实验条件下,每一种铜-铝合金相的出现都有一临界负偏压 与之对应.  相似文献   
2.
采用直流溅射法在室温条件下制备〈101〉取向织构的氮化铝(AlN)多晶薄膜,研究实验条件(溅射功率、氩气和氮气流量等)对氮化铝薄膜的成膜速率、结构、颗粒度、应力等性能的影响,得到了较佳的制备条件.本研究结果具有成膜温度低、溅射功率小、沉积速率高和薄膜高度织构等优点,对高性能氮化铝薄膜的制备及应用研究具有一定的参考价值.  相似文献   
3.
磁控溅射离子镀膜组织与相结构的电镜研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文主要应用JEM-100CXⅡ型透射电镜研究了在C-u基材上磁控溅射离子镀Al及CrNi不锈钢时的沉积层组织与相结构。研究发现; 在一系列沉积工艺条件下,Cu基镀 CrNi不锈钢时,其涂层结构只含一种 Fe基 α相;镀 Al时,随基板偏压升高,可获得一系列新合金相,如;Al,AlCu,Al-2Cu-3,Al-4Cu-9,AlCu-3,AlCu-4,aCu等。这些结果将为进一步探索这类涂层的形成机理提供必要的理论与实验根据。  相似文献   
4.
用磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO透明导电膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文介绍了磁控溅射的原理以及磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO透明导电膜的实验方法.  相似文献   
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