高精度平面光栅尺测量系统减振技术研究

高精度平面光栅尺测量系统的测量精度直接影响浸没光刻机硅片台的定位精度和稳定时间.考虑到安装在平面光栅尺载体上的平面光栅尺因其载体固有频率较低,易受到主基板残余振动和高速硅片台气压扰动而产生振动,因此研究平面光栅尺载体的减振技术意义重大.文中阐述了一种新型平面光栅尺载体减振方法,围绕热解耦技术和粘滞阻尼吸振技术,进行理论建模、仿真分析和测试评价.结果表明粘滞阻尼器和柔性结构并联系统可以显著改善平面光栅尺载体结构动态特性,提升平面光栅尺测量系统的测量精度及缩短硅片台的稳定时间.      

光刻机镜头的结构设计与装配

介绍工作波长为193am的投影光刻物镜的研制，时结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑，提出投影光刻物镜结构设计和装配方法．本文研制的镜头在光刻机中获得了广泛应用．     

休斯光刻机汞灯电源的原理与维修技术

汞灯具有电弧密度大、亮度高、近紫外谱线集中等许多优点,在微电子光刻领域中有广泛应用。由于汞灯为高强度气体放电灯,发光受环境温度、电压强度等因素影响较大,为光刻设备中易出现故障的器件之一。在大连理工大学微系统实验室近9年的使用过程中,对德国休斯公司生产的MA6型光刻机的汞灯工作原理进行了充分的研究和分析。通过维修,解决了汞灯电源电流停机保护故障和温度停机保护故障两个问题,保障了设备的正常运行。同时,揭示了汞灯光源的功率电路、控制电路原理,介绍了恒功率输出、恒光强输出的电路工作原理。     

全自动光刻机自动对准与激光扫描光学系统

本文首先概述了全自动光刻机的对准光学系统,接着详细阐述了激光扫描实时检测对准误差的基本原理,分析了扫描对准光学系统的设计要求,讨论了设计时应该遵循的原则、设计方法、设计步骤和有关方案,并给出了部分测试结果.     

“光刻机”的概念、技术及其在专利文献中的分布

光刻机技术是大规模集成电路制造领域中的核心技术。文章介绍了光刻机的概念、结构及其简要技术发展历程，并列举和解释了光刻机技术领域的重点技术术语，此外，针对光刻机技术的专利文献查新检索，总结了光刻机技术在专利文献分类中的分布情况。     

合肥谋建中国科技交易中心媲美“深圳高交会”

5月15日，省委常委、市委书记孙金龙来港参加2006中国国际徽商大会。一下飞机，他就直奔香港中环集团有限公司所在地，与中环公司高层展开座谈、参观考察了中环公司产品研发中心。市领导杜平太、市委秘书长林存安陪同。孙金龙对中环公司参与在肥投资高科技光刻机项目表示欢迎。     

光刻机运动控制与网络监控技术研究

光刻机是IC器件制造的关键设备之一,其工件台的高速度和高定位精度是获得高质量光刻和高效率的重要条件.本文通过对光刻机工件台运动速度模式、运动轨迹和定位误差补偿以及现代运动控制技术和网络监控技术的研究,应用运动控制器强大的计算能力,实现优化的速度模式和运动轨迹;应用电机编码器和直尺光栅作为反馈器件,实现全闭环控制;应用基于TCP/UDP协议的远程控制和视频监控技术,实现交互式的远程监控.在Windows操作系统下,用Visaul C 开发工具完成了控制系统的软件开发.实验结果表明,该系统能使工件台的定位精度达到±1 μm,并具有较高的工作效率,体现了较高的应用价值.     

大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计

论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５１μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。     

基于ZPET-FF和ESO的直线伺服鲁棒跟踪控制

提出一种将零相位误差跟踪和前馈(ZPET-FF)与扩张状态观测器(ESO)相结合的重复控制方法,以提高宏动台直线电机伺服系统的跟踪性能.以ZPET-FF作为前馈跟踪控制器,将信号估计器估计的跟踪误差和系统的实时误差作为其输入信号,将控制器对系统的跟踪误差进行实时补偿,以降低参数变化对系统的影响,有效提高系统的带宽和跟踪性能,减小系统的动态跟踪误差;采用ESO补偿系统中的各种扰动抑制噪声,以提高系统的抗干扰能力.实验结果表明,所提出的控制方法不仅提高了系统的动态跟踪性能,而且减小了系统的跟踪误差.