首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   18篇
  免费   0篇
综合类   18篇
  2005年   1篇
  2004年   3篇
  2003年   4篇
  2002年   5篇
  2000年   2篇
  1999年   2篇
  1997年   1篇
排序方式: 共有18条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
MOCVD法制备Fe/Mo功能梯度材料   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法,以Mo(CO)6,Fe(CO)5为物源,在Al2O3陶瓷基片上制备了 Fe/Mo功能梯度材料,并用XPS,XRD,SEM和台阶仪等技术对其成分分布、物相组成、表面形貌和厚度进行测试 和表征.结果表明:材料的组成沿厚度方向呈连续梯度变化,符合功能梯度材料的变化规律.  相似文献   
2.
研究了在常压喷动流化反应器中 ,以金属有机化学气相沉积 (MOCVD)法制备双包覆层珠光颜料的工艺 .实验结果表明 :以Ti(OC2 H5) 4 为物源 ,在有氧情况下用高纯氮气作为载气 ,沉积温度为 30 0℃时 ,沉积的TiO2 膜晶形为锐钛型 ,温度升高至 5 0 0℃时 ,TiO2 膜晶形为金红石型 ,且包覆致密 .在此基础上控制不同的包覆时间 ,再包覆以Fe2 O3 为主的铁氧化物 ,可获得橘红、金红等光泽柔和的双包覆层珠光颜料  相似文献   
3.
以Mo(CO) 6 为物源在刀具钢回火温度以下实施了气相沉积超硬膜涂覆 ,经实验测试、分析 ,结果表明薄膜中含碳量是影响薄膜表观硬度的重要因素 ,并且该薄膜能改善刀具 (钻头 )的表面力学性能 ,增加其使用寿命  相似文献   
4.
国内外云母珠光颜料研究进展   总被引:8,自引:1,他引:8  
综述了国内外云母系珠光颜料开发研究的新进展,通过分析多覆层云母珠光颜料在遮盖性,着色性等方面的优越表现出以及传统的液相包膜技术在开发新产品所遇到的技术瓶颈。阐述了气相沉积(CVD)技术在开发系列高性能多包覆层的珠光颜料的优越性及发展前景。  相似文献   
5.
聚氨酯微孔膜的防水透湿性及电镜分析   总被引:9,自引:0,他引:9  
以聚氨酯微孔膜的电膜照片,分析在不同组成和不同的成型条件下制取的膜的结构和性能,得到了采用配比为10/05/05的NN二甲基甲酰胺/四氢呋喃/乙二醇的混合溶剂和高温分级快干条件下形成的PU膜.该膜具有细密微孔结构和优良的防水透湿性  相似文献   
6.
山城紫苕天然色素的提取和分离   总被引:8,自引:1,他引:8  
采用溶剂萃取和吸附精制的方法对山城紫苕中的天然色素进行提取和分离。通过对萃取剂pH值、浓度,萃取时间、温度等对色素提取率影响的探讨,摸索出了提取山城紫苕色素的最佳工艺条件.萃取液经AB-8大孔吸附树脂的柱层析富集精制,获得了高质量、高纯度的花青素类天然色素.  相似文献   
7.
MOCVD法制备金属-陶瓷功能梯度材料的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法,以Mo(CO)6,Si(OC2H5)4为物源,在Al2O3陶瓷基片上制备了金属一陶瓷功能梯度材料,并用XPS,XRD,SEM等技术对其成分分布,物相组成和表面形貌进行测试和表征,结果表明:材料的组成沿厚度方向呈连续梯度变化,符合功能梯度材料的变化规律。  相似文献   
8.
羰基金属气相沉积工艺条件及膜结构研究   总被引:4,自引:4,他引:0  
在Al2O3陶瓷基片上以Mo(CO)6为源采用低压冷壁式设备和金属有机气相沉积(MOCVD)方法制备Mo2C薄膜,探讨了该薄膜结构受温度、压力和沉积速率等工艺因素影响的关系.  相似文献   
9.
在流化床反应器中以碳基铁为物源,用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法制备了云母珠光颜料.由颜料的SEM和EPMA图分析表明:云母微粒为片状结构,平均粒径为50μm;沉积在云母表面上的是均匀分布的30-nm的透明氧化铁微粒,这种结构对光能产生多重散射、折射、反射,从而呈现出绚丽的珠光光泽.  相似文献   
10.
钼钨纳米合金膜的制备及其微结构研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用羰基金属气相沉积方法,在Al2O3陶瓷基片上,以Mo(CO)6 W(CO)6为源,制备了Mo-W纳米合金晶膜.采用XRD和SEM技术,并与相同条件制备的Mo膜比较,研究了Mo-W合金晶膜的微结构.结果表明:该法制备的薄膜是以纳米粒子状态存在、具有超微结构的多晶膜材料.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号