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深振荡磁控溅射(Deep Oscillation Magnetron Sputtering, DOMS)通过一系列调制的电压微脉冲振荡波形,能够实现完全消除电弧放电和靶材近全离化,实现高密度、低离子能量和高束流密度的等离子体沉积.本文综述了DOMS的技术原理和深振荡脉冲放电特性对等离子体离子种类、离子能量的时空演化过程的影响,结果表明,DOMS脉冲参数对靶离化过程的影响遵循电压-时间演变规律,靶离化过程为随短脉冲电压振荡的阶段性离化. 相似文献
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采用有限元分析法对超速转子试验台的模拟转子系统进行模态分析,较全面地分析了整机的振动特性,并根据仿真和试验结果分析了可能造成系统破坏的因素,为试验的动态分析提供理论依据,从而实现设计方案的优化和升级. 相似文献
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