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21.
利用直流磁控溅射Ta膜和阳极氧化法制备Ta2O5薄膜,能谱分析(EDS)和X射线衍射仪(XRD)研究表明,在H3PO4电解液中添加少量的乙二醇制备的Ta2O5薄膜,呈非晶态,没有β-Ta2O5晶相出现.利用电击穿场强测试系统研究Ta-Ta2O5-Al复合薄膜制备FED器件(MIM结构)的绝缘性,证明采用磁控溅射和阳极氧...  相似文献   
22.
主要论述金刚石薄膜场致发射材料的性能,包括了多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜(DLC)、纳米结构金刚石薄膜、用酸处理后的金刚石薄膜等的性能,给出了几种典型的金刚石薄膜场致发射阴极结构。  相似文献   
23.
介绍低熔点玻璃材料封接工艺 ,主要包括低熔点玻璃材料的选择、调制、涂覆、加热处理以及玻璃基板的预处理 .根据此工艺 ,已封接出令人满意的显示屏  相似文献   
24.
介绍了一种用于场致发射显示的平面多层膜电子发射结构的制作过程 ,采用真空溅射的方法镀制玻璃衬底 Cr-Cu Al2 O3 ZnS Ag结构的平面电子源 ,对其发射性能进行了论述 ,并取得优化发射性能的工艺参数  相似文献   
25.
利用酸化及球磨工艺对碳纳米管(Carbon Nanotubes,CNTs)进行表面改性及分散处理,通过丝网印刷技术制备碳纳米管阴极并真空封装碳纳米管背光源原型器件.透射电镜(TEM)及扫描电镜(SEM)分析表明,酸化及球磨处理后的碳纳米管表面产生管壁缺陷并分散均匀,有利于改善碳纳米管场发射性能.通过器件性能测试,亮度高达到5 000 cd·m-2,稳定发射35 h,发射电流无明显衰减.  相似文献   
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