改性瓜尔豆胶印花性能探讨

对改性瓜尔豆胶和海藻酸钠印花糊料的各项性能及其用于棉织物活性染料印花效果进行对比.实验表明,改性瓜尔豆胶的成糊率较高,其PVI值比海藻酸钠印花糊料PVI值低,粘度较大,更接近平网印花对糊料粘度的要求,且印花织物具有较好耐摩擦、耐水洗性能;改性瓜尔豆胶糊料其印花织物的K/S值与海藻酸钠糊料的印花织物相接近.因此,使用改性瓜尔豆胶可以部分替代海藻酸钠作为印花糊料,以降低生产成本.     

染料在共混丙纶中的吸附和扩散

通过采用添加少量烯烃类高聚物的方法,制得可染共混丙纶,对其染色速度和染色平衡进行了研究。研究结果表明,染色速度与染色温度、染料结构有很大的关系,染色的等温吸附线属于Nernst型。     

磁性固相萃取-液相色谱法测定环境水样中多种碱性染料

采用化学共沉淀法制备了Fe3O4磁性纳米材料(Fe3O4MNPs),通过X射线粉末衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对其进行了结构表征,结果表明,Fe3O4MNPs呈球状,大小均匀,平均直径小于50 nm,具有良好顺磁性.使用十二烷基磺酸钠(SDS)修饰的方法,应用该磁性纳米材料成功吸附富集了环境水中多种碱性工业染料.通过分析p H、SDS质量浓度、Fe3O4MNPs和Fe3O4MNPs/SDS的Zeta电位对吸附能力的影响,推测吸附机理主要基于半胶束/胶束与碱性染料间的静电作用.以此为基础,建立了磁性固相萃取-高效液相色谱测定环境水样中的碱性嫩黄O、碱性橙21、碱性橙22和罗丹明B含量的分析方法,并对SDS加入量、溶液p H值、Fe3O4MNPs质量浓度和解析溶剂进行了优化.在优化的条件下,富集因子超过100倍,4种染料在0.05~0.5 mg/L范围内线性良好,相关系数R均大于0.999 7;加标回收实验测得4种染料的回收率为96.1%~108.7%,相对标准偏差(RSD)为1.08%~2.35%.方法操作简单,结果准确,重现性好,表明该纳米材料经SDS修饰后,在环境水中染料的吸附富集,检测预处理方面有着广泛的应用潜力.     

MCM-22分子筛对水溶性染料的吸附作用

采用呲啶吸附FT-IR、NH3-TPD、低温N2吸附等表征了所合成的MCM-22分子筛的酸性和孔结构,并考察了吸附时间、吸附剂用量、染料初始浓度、溶液pH及重复利用次数等对甲基橙(MO)和亚甲基蓝(MB)吸附性能的影响.结果表明:MCM-22分子筛对甲基橙和亚甲基蓝均有较好的吸附效果.对浓度为1×10-4mol·L-1...     

几种含二茂铁基染料的合成

设计合成了５个含二茂铁基的萘酰亚胺类、蒽醌类、偶氮类染料，通过核磁共振氢谱、质谱、元素分析对其结构进行了表征，并对合成进行了讨论。     

吡啶菁衍生物键合于单晶硅表面的研究

用化学方法将两种光敏染料２，４－吡啶等衍生物及噻－４’－吡啶等衍生物分别键合于单晶硅表面，对所得键合光敏染料之硅片进行了拉曼光谱及ｘ－射线光电子能谱的测试，结果表明：两种光敏染料都被键合在单晶硅表面。同时，测定了用键合了光敏染料的半导体硅片制成的Ｉｎ／染料／ｎ－Ｓｉ多层结构器件的光谱响应，与无覆盖抗反射膜的硅ｐ－ｎ结光电池的光谱响应曲线相比较，发现除在６５０ｎｍ处出现对应于硅衬底的吸收峰外，在短波范围内出现与光敏染料的最大吸收相对应的吸收峰。由此可见光敏染料的键合可拓宽半导体硅的光谱响应。     

3—甲基—2—(取代苯乙烯基)—苯并噻唑碘盐的合成及紫外可见光谱

报道了7种属于半菁染料的苯乙烯噻菁染料的合成及紫外可见光谱研究。发现在甲醇溶液中,取代基对吸收光谱具有一定的影响。     

用新型流化床处理印染废水的研究

采用新型流化床处理某印染废水,其脱色率可达96%～100%,COD 去除率达80%～90%,BOD_5去除率 80%～90%,初步探讨了该处理系统的反应机理.     

应用交联剂TAHT提高活性染料固色率的探讨

本文探讨了交联剂TAHT在活性染料印花时的作用。证实了在活性染料印花中采用交联剂TAHT,可使大部分常用活性染料的固色率及印花织物的K/S值获得不同程度的提高,并确定了应用TAHT的合适的色浆配方及印花工艺。使用TAHT可提高活性染料的利用率,减轻后处理负担,减少污水,降低成本。     

苯并氧杂蒽-3,4-二酸酐型染料的合成研究

以1,8-萘酐为原料,经过氯化(重量产率82%)、缩合(71%)、还原(90%)、环构(98%)、亚酰胺化等反应步骤,合成了苯并氧杂蒽-3,4-二酸酐及其八种衍生物。提出了引入不同基团时,衍生物色光的变化趋势,并研究了其衍生物在聚酯纤维上的染色应用性能。结果表明:所得的染样具有强烈的绿色荧光,且色泽鲜艳,耐升华牢度一般为4—5级,耐晒牢度最好的可达5级。