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51.
52.
本文讨论了正蕴涵BCK-代数的剩余刻划;证明了具有条件(S)的正蕴涵BCK-代数的伴随半群是一个下半格。 相似文献
53.
谢盛荣 《四川大学学报(自然科学版)》1998,35(6):815-818
设{X(t),0≤t≤T}是标准正态过程且以概率1有连续的样本函数。探讨了对于水平n〉0过程中穿过的期望次数,给出了几个涉及相关函数的条件。 相似文献
54.
胡文忠 《内蒙古大学学报(自然科学版)》1998,29(2):161-166
讨论对数正态风频模型的各种参数估算方法,给出拟合误差与风场统计资料及参数估算方法之间的关系式。 相似文献
55.
王岷 《河北大学学报(自然科学版)》1998,(4)
以线性变换作为应力状态的一个数学模型,利用代数的理论,得到了斜截面上剪应力的一个新公式,同时指出了它在应力分析中的应用。 相似文献
56.
曹怀信 《西北大学学报(自然科学版)》1998,28(5):374-376
讨论了C*-代数中的正元逼近问题,研究了逼近度的一系列性质;应用C*-代数的万有表示和Halmos关于正算子逼近的结果,证明了C*-代数中的任一元都存在最佳正逼近并且给出了最佳正逼近的表达式。 相似文献
57.
文章讨论非线性规划问题,借助于函数拟舍的思想,建立了问题的一个初始点任意的线性收敛的新算法,在新算法的每次迭代中,下降方向是从函数的拟合中得到,而不是由传统的拟牛顿方程得到,并且在较弱的假设下证明算法是线性收敛的. 相似文献
58.
针对目前微电子机械系统(MEMS)制造中存在的三维加工能力不足的问题,将压印光刻技术和分层制造原理相结合,研究了三维MEMS制造的新工艺.采用视频图像原理构建了多层压印的对正系统,对正精度达到2μm.通过降低黏度和固化收缩率,兼顾弹性和固化速度,开发了适用于微压印工艺的高分辨率抗蚀剂材料,并进行了匀胶、压印和脱模工艺的优化实验.通过原子力显微镜对压印结果进行了分析,分析结果表明,图形从模具到抗蚀剂的转移误差小于8%,具有制作复杂微结构的能力,同时也为MEMS的制作提供了一种高效低成本的新方法. 相似文献
59.
张丰硕 《云南民族大学学报(自然科学版)》2005,14(4):299-300
正则*断面是研究半群结构的一个重要手段,强正则*断面是正则*断面的加强.现通过研究矩形群的强正则*断面.利用已知强正则*断面的结构定理,给出了矩形群的强正则*断面的结构刻画和同构定理. 相似文献
60.
柏林 《达县师范高等专科学校学报》2005,15(2):13-14,17
讨论了椭圆及其内接、外切六边形的仿射等价问题,给出了椭圆及其内接、外切六边形与圆及其内接、外切正六边形仿射等价的必要条件与充分条件. 相似文献