基于微压印成形的三维微电子机械系统制造新工艺

针对目前微电子机械系统(MEMS)制造中存在的三维加工能力不足的问题,将压印光刻技术和分层制造原理相结合,研究了三维MEMS制造的新工艺.采用视频图像原理构建了多层压印的对正系统,对正精度达到2μm.通过降低黏度和固化收缩率,兼顾弹性和固化速度,开发了适用于微压印工艺的高分辨率抗蚀剂材料,并进行了匀胶、压印和脱模工艺的优化实验.通过原子力显微镜对压印结果进行了分析,分析结果表明,图形从模具到抗蚀剂的转移误差小于8%,具有制作复杂微结构的能力,同时也为MEMS的制作提供了一种高效低成本的新方法.     

矩形群的强正则*断面

正则*断面是研究半群结构的一个重要手段,强正则*断面是正则*断面的加强.现通过研究矩形群的强正则*断面.利用已知强正则*断面的结构定理,给出了矩形群的强正则*断面的结构刻画和同构定理.     

论椭圆及其内接、外切六边形的仿射等价问题

讨论了椭圆及其内接、外切六边形的仿射等价问题,给出了椭圆及其内接、外切六边形与圆及其内接、外切正六边形仿射等价的必要条件与充分条件.     

合作学习与传统小组活动比较研究

本文从小组构形、教学中的互动关系类型、学习资料分配、个体责任感、奖励机制、合作技能等九个方面比较了合作学习与传统的小组活动教学策略的差异,旨在较深入地阐释合作学习的特点和优势,以利于将合作的观念引入外语教育系统,提高外语教学的教育效果.     

正盈量二部图的最大匹配数下界的紧性

无向简单图G的亏度（deficiency）是未被最大匹配所覆盖的顶点数；一个二部图G（A，B）具有正盈量（posidve surplus）（对A而言）当且仅当对A的任何非空集合X所包含的顶点数一定小于其邻集所包含的顶点数。对具有正盈量的二部图，刻画了其当亏度def（G）给定时达到最大匹配数下界的二部图，从而验证了此类二部图最大匹配数下界的紧性。     

渐近周期竞争-竞争-互惠扩散系统的持续生存性

讨论如下渐近周期竞争-竞争-互惠系统｛u1t-d1△u1=g1u1(1-u1/a1-a2u2/1 a3u3),u2t-d2△u2=g2u2(1-b1u1-u2/b2), in()R , u3t-d3△u3=g3u3(1-u3/c1 c2u1),ui=0 on ()×R ,i=1,2,3 的解的全局渐近性态.证明在系数满足一定条件时该系统是持续生存的,而在系数满足另外的条件时该系统是部分绝灭的.     

积分准则及检根法的等价定理

在常数项级数中，经常运用积分准则及检根法来判定正项级数的敛散性，而使用积分准则判定正项级数的敛散性，首先要判定无穷积分的敛散性，有时不太方便，因此，为了使正项级数敛散性的判定更加灵活，我们想直接用正项级数通项来判定其敛散性，所以，运用无穷小比较的方法给出了积分准则的等价定理；又根据lim(n→m)lnαn/n的符号给出了检根法的等价定理；并给予证明，从而使正项级数敛散性的判定更加灵活自如。     

氨基酸N-羧酸内酸酐与胺反应的位阻效应

研究了σ-氨基酸的N-羧酸内酸酐(4-烷善2，5-二氧代噁唑啉)与胺缩合反应．用L-苯丙氨酸．L-缬氨酸，L-亮氨酸制得相应的N-羧酸内酸酐．并分别与二乙胺．叔丁胺．异丙胺．正丁胺反应．正丁胺与N-羧酸内酸酐仅分离得到酰胺，而叔丁胺或异丙胺得到的是脲酸和酰胺的混合物．二乙胺与N-羧酸内酸酐反应则仅得到脲酸衍生物．产率大于80％，具有制备价值．发现N-羧酸内酸酐4位取代基的位阻效应对反应的区域选择性具有一定的导向作用．大位阻基团导致产物中脲衍生物比例增加．     

如何用SPSS、SAS统计软件进行正态性检验

目的 了解常用统计软件对计量资料作正态性检验的方法。方法从理论上介绍正态性检验常用的方法，并举例说明如何用SASSPSS统计软件对计量资料作正态性检验。结果不同的统计软件对同一统计量的分析操作不同但结果一致。结论熟悉统计软件的应用特点并正确掌握统计资料的分析方法。     

完全聚焦作用与测试屏幕上亮区的形成机理

证明了与测试屏幕上B点和C点相对应的灯丝上的起亮点为完全聚焦点，指出了在仅考虑完全聚焦效应的前提下，不在焦点的灯丝上的点光源所发出的光线，经过旋转抛物面的反射，于测试屏幕上相应地形成由两条曲线所组成的桃形入射轨线。分析结果还表明，以组成桃形入射轨线的两条曲线为中心，在测试屏幕上分别形成两条距离很近的亮带。利用此结论，可以知道，随着灯丝的变长，亮带不断外推，从而在测试屏幕上形成连续的亮区，这比较清楚地解释了测试屏幕上桃形亮区的形成机理。