离子参与的化学反应与Gibbs-Helmholtz方程的应用

考察了无机化学领域中离子参与的化学反应(如酸碱电离、沉淀-溶解和氧化还原反应等)的电化学共同性，探讨Gibbs—Helmholtz方程对离子参与的化学反应的直接应用。     

1,8-萘啶类化合物及其配合物的研究进展

1，8-萘啶类化合物及其配合物是当前国内外研究的热点，具有特殊的抗菌活性、催化及光学特性，极具应用潜力。本文综述了该类化合物及其配合物结构、性质以反应用等方面的研究进展。     

胶体晶体及三维有序多孔材料的制备

以粒径为80～320nm的单分散苯乙烯／苯乙烯磺酸钠共聚微球为原料，采用一种全新而简单的制备高度有序胶体晶体模板的方法，利用静电相互作用、表面张力以及蒸发过程中的离子扩散等作用在液面形成了不合溶剂的高度有序的胶体晶体．将溶胶-凝胶前驱液在毛细效应作用下渗入胶体晶体间隙，待前驱液固化后，经煅烧去除苯乙烯微球，制备出了具有三维有序结构的多孔材料——倒置蛋白石．     

关于余作用交叉积的顺从性

设δ为局部紧群G在C*代数A上的余作用，证明了对任一C*代数B有一G在AB上的余作用δ使得（A×δG）B≈（AB）×δG，因此得到若A顺从，则A×δG顺从．     

蒸馏水润滑下Si3N4—白口铸铁摩擦面上表面膜的分析

在环－块磨损试验机上考察了蒸馏水润滑下Ｓｉ３Ｎ４分别与白口铸铁和碳钢（作对比用）配副的摩擦磨损特性．在ＳＥＭ下观察了白口铸铁磨面表面膜的形成过程，用ＸＰＳ、ＦＴＩＲ和ＸＲＤ分析了表面膜的成分、组成与结构，并对其形成机理进行了探讨．结果表明，Ｓｉ３Ｎ４在水润滑下摩擦时磨面上发生了氧化和水解反应：当Ｓｉ３Ｎ４与白口铸铁配副时，由于铸铁中碳化物的剥落而形成剥落坑，Ｓｉ３Ｎ４磨屑嵌入剥落坑并氧化和水解，其反应产物富集于剥落坑中，脱水聚合后形成硅胶，从而在磨面形成具有一定厚度和面积的含硅胶的表面膜，表面膜的形成保护了陶瓷和铸铁磨面，使其变得很光滑，从而使摩擦系数降至０．０２，并使系统磨损率几乎接近于零；当Ｓｉ３Ｎ４与碳纲配副时，由于碳钢没有能力富集Ｓｉ３Ｎ４的氧化和水解产物，故磨面不能形成有效的表面膜，所以其摩擦系数仍然较高，且系统磨损率亦较大     

Collaborative applications based on the internet

The basic concepts of collaborative applications and some relevant aspects about network communications are introduced. With the examples of some collaborative applications developed by us, several technical problems about collaborative applications, such as loss of data packets, unknown IP address and timedelay, are discussed in detail. And the methods of solving these problems are also provided. Supported by International Cooperation Project (Japan, Jincheng Co. Ltd) Fang Rui: born in 1975, Graduate student     

分类器系统综述

分类器系统(Classifier System)是一种基于遗传算法(GA)的规则系统,本文综述了分类器系统的基本原理和研究状况,并提出了需进一步研究的问题.     

雪腐捷氏霉形态和生物学特性研究

系统研究了采自中国的新疆、陕西、青海、宁夏、四川、贵州、湖北等7个省(区)和捷克的12个雪腐捷氏霉菌系的形态和生物学特性.通过单孢分离和纯培养,结果表明,各菌落颜色不同,分生孢子、子囊孢子大小有差异,最适生长温度亦不同.说明12个菌系属于不同生理专化类型.