离子渗氮自动控制系统的设计

给出了基于单片机的等离子体渗氮工艺自动控制系统的设计方案,该系统由PIC单自机、AI智能仪表及脉冲电源等组成,对该系统组成部分的功能和监控程序设计作了详细地说明,该系统实现了对等离子体渗氮工艺的自动控制,为现行离子渗氮的设备发行和该工艺的技术进步将起到重要的作用。     

常压等离子体渗氮层摩擦学性能的试验研究

利用介质阻挡放电，形成非平衡等离子体，在自制的设备上进行常压等离子体渗氮研究，采用优化工艺对42CrMo材料进行离子渗氮处理，对处理后的试样硬度、断面金相组织进行了分析，对渗层的摩擦学性能进行了研究，并辉光离子渗氮工艺比较，试验结果表明：这种工艺完全达到了辉光渗氮处理的要求，并且组织致密，有利于提高其耐磨性，该渗氮工艺具有渗速快、渗层深、白亮层厚，渗氮效率高等优点。     

等离子体渗氮流量控制系统的研究

针对等离子体渗氮工艺过程中存在的转子流量计测量不准、调节精度低、质量流量控制器价格高、电磁阀失效等问题，设计了一种新的等离子体渗氮流量控制系统，该系统具有精度高、响应快、性能稳定、价格低的特点。     

常压等离子体渗氮应用初探

通过对现有的常规等离子体轰击渗氮技术的分析,提出了常压等离子体渗氮技术,分析了常压等离子体渗氮技术的原理和特点,并对常压等离子体渗氮技术的可行性进行了初步的实验研究,研究结果初步证明常压等离子体渗氮技术有可能成为一种前途的金属表面强化技术,论文的最后指出该技术尚待解决一些问题。     

常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮工艺的优化

利用介质阻挡放电，在常压下进行非平衡等离子体渗氮，通过正交试验研究渗氮工艺参数的作用，分析渗氮膜层的相结构及其显微组织，确定常压下较为理想的渗氮工艺参数，试验结果表明，新工艺能在较短时间内获得较高的表面硬度与理想的扩散层；整个工艺过程操作简便，省去了真空放电下必需的真空设备，是一种极其发展前景的新型渗氮工艺。     

离子渗氮自动控制系统交互接口设计与实现

根据集散式离子渗氮自动控制系统的人机交互要求，分配上位机和下位机的监控工作，分别设计了上、下位机的输入输出方法及支持的硬件和软件．满足了离子渗氮自动控制系统中上、下位机各自的监测和控制要求，提高了操作的灵活性和控制的可靠性．重点考虑了如何确定人机界面应设定哪些参数，及上、下位机如何分配这些参数的设定．     

35CrMo钢罐装法多段渗氮渗层组织与耐蚀性能

为确定合理的多段渗氮工艺,以尿素为渗氮剂,采用密封罐法对35CrMo钢进行多段渗氮处理,并利用金相显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计和化学工作站研究了由不同阶段渗氮工艺制备的氮化层的显微组织、显微硬度和耐蚀性能。结果表明:采用三段渗氮工艺(520℃×3 h+600℃×2 h+520℃×1 h)制备的渗氮层最厚,其氮化层组织主要由Fe-Cr相和Fe3N相组成,表面硬度较高,耐蚀性最好。该三段渗氮工艺符合氮化规律,增加了渗氮层厚度,提高了硬度和耐蚀性能。     

微机控制的大功率脉冲电源在等离子体源离子渗氮中的应用

介绍了微机控制的等离子体源离子渗氮的原理、方法,阐述了脉冲电源在渗氮过程中的应用方法,以及首次采用这种方法对不锈钢样品进行渗氮处理后所得到的一些结果.     

辊道窑计算机管理控制平台系统设计

介绍了计算机自动控制和管理窑炉温度的原理、设计和安装工艺及其技术要求,阐述了自动控制和管理温度窑炉的相关设备参数设定及其工艺要求,分析了系统达到窑炉温度自动控制的功能,从而实现生产产品质量提升和能耗降低。     

热循环离子渗氮的快渗机制

根据热循环离子渗氮（ＩＮＴＣ）过程渗层生长动力学特性和表面相组分的变化规律,分析了辉光放电等离子体对热循环渗氮的增强作用,提出了循环变温过程相的脱溶和离子轰击形成的表面γ’相导致内扩散速度加快的机制,指出ＩＮＴＣ的深层快渗效果系集离子渗氮与热循环渗氮二者之长所致．