局部化环上的群环

研究了正则环、半遗传环和零维环等常见环的局部化环上群环的模结构，得到了这些环的局部环上群环为投射自由环的充要条件。     

关于N-正则环和N-IF环

本文首先引入N-平坦模的概念,研究了它的性质及等价命题;其次引入了N-平坦维数的概念,阐述了模M的N-平坦维数及环R的N-平坦维数的性质;最后引入N-正则环和N-IF环的概念,证明了正则环,N-正则环和IF环,N-IF环之间的关系.     

环的QZIF维数

定义了一种比弱整体维数更“弱”的维数——环的QZIF维数,得到了QZIFD(R)≤n和QZIFD(R)=0的环的几个等价结论,并对几类特殊环的QZIF维数和IF维数作了比较,另外讨论了QZIFD(RS)与QZIFD(R)、QZIFD(S)之间的关系.     

G_C-同调维数

研究Gc-同调维数.首先考虑了Gc-同调维数与经典同调维数的关系;考虑了Gc-投射维数的换环定理,给出了经典第二换环定理的一个推广;定义了任意交换环R的有限GC-投射维数和模的Tc-平坦维数,探讨了前者与有限Pc-投射维数的关系,后者与模的Gc-平坦维数的关系;最后,研究了短正合列Gc-同调维数的关系.     

斜Hurwitz级数环的PP性质

研究了斜Hurwitz级数环的PP性质,证明了当R是σ-刚性环,且R关于加法做成的群是挠自由群时,R上的斜Hurwitz级数环是PP-环当且仅当R是PP-环,且R的每个由幂等元组成的可数集在R的全体幂等元组成的集合B(R)中有上确界.还证明了若R是交换的σ-刚性环,且R关于加法做成的群是挠自由群时,R上的斜Hurwitz级数环是弱PP-环当且仅当R是弱PP-环.     

Hurwitz幂级数环的Baer性

证明了如果R是abelian环且ZR是挠自由Z-模,则R是Baer环当且仅当R上的Hurwitz幂级数环HR是Baer环.     

半自反模及半自反维数

通过引进模及环的半自反维数，主要研究了半自反维数为０的环的一些性质，考虑了可裂正合列中模的半自反性，最后举例说明存在半自反维数为１的环。     

凝聚环上FP—内射维数的换环定理

讨论了凝聚环上的FP-内射维数的换环定理及其它维数公式。     

广义稳定Morita系统环

T为Morita系统(A,8,M,N,ψ,φ)的Morita环.若A,B分别是关于理想I,J的广义稳定环,当Imψ Rad(A)或者IMφ Rad(B),则T是关于T(I,J)的广义稳定环.     

WFGT-维数和弱Π-凝聚环

本文引入弱II-凝聚环,定义了WFGT-维数,用弱余生成模类讨论了该类环及其上的模的一些(上) 同调性质.     

鹅掌楸碱的抗氧化性及稳定性研究

采用DPPH法评价鹅掌楸碱的抗氧化活性及在不同理化条件下的稳定性.方法：采用DPPH作为自由基体系,通过测定加入鹅掌楸碱后对DPPH溶液吸光度值的改变来计算出鹅掌楸碱对DPPH自由基的清除率和IC50值,以此评价鹅掌楸碱的抗氧化活性;另外,测定鹅掌楸碱受到光,热和酸碱介质处理前后鹩掌楸碱吸光度值的改变,以此评价鹅掌楸碱在这些理化条件下的稳定性.实验表明鹅掌揪碱对DPPH自由基的IC50值为0.70mg/mL.其在弱碱性介质中可稳定存在,5小时60℃恒温处理对鹅掌楸碱稳定性无明显影响,然而在酸性介质或者室内自然光照射会引起吸光度值的下降.鹅掌楸碱具有一定的抗氧化活性,在室温,避光和弱碱性介质下可稳定存在.     

关于Au-内射维数与AuQ

本文引进Au-内射维数与AuQ环的概念;讨论它们的性质并给出AuQ环的等价刻划。     

三角矩阵环是强clean环的环构造

利用整数环,构造了两个具有局部化性质的环,证明了所构造的环上的矩阵环的强clean性．最后,根据局部环的性质,证明了所构造的环上的投射模都是自由模．     

M-本质内射模和本质内射维数

在M-内射模的基础上引进了M-本质内射模的概念,研讨了M-本质内射模的一些性质,并且引入了M的本质内射分解和本质内射维数的概念,深入探讨了内射维数和本质内射维数之间的关系,得出了一些重要的结论.     

平行自由构形

自由构形是超平面构形中一类重要的构形．本文将自由构形进行了推广，用平行的超平面组代替自由构形中的单个超平面，进而得到了一类新的超平面构形．平行自由构形，并运用Whitney定理求出了其特征多项式及区域个数，推广了n维向量空间中自由构形的相关结论．     

关于拟主k-投射半模的进一步结果(英文)

在k-投射半模和拟主模的理论基础之上,引进拟主k-投射半模的概念,得到关于拟主k-投射半模的几个性质,这是环中拟主模和半环中k-投射半模性质的推广。证明:如果P是一个正则半模,则它是拟主k-投射半模当且仅当它是投射半模。给出在完全可吸收可消去半环上与拟主k-投射半模等价的两个条件。