光电晶体管基区分布电阻的计算

给出了包括解析式外基区电阻和从SEDAN程序计算得到的基区Gummel数在内的内基区电阻的计算.结果表明该电阻与光敏区面积、发射区边长、发射区位置、发射极电流等因素有关.方形光敏区中发射极的最佳位置在中心;光敏区边长对发射区边长的最佳比值是7.578425:1.这些结果将被用于设计低噪声和高频光电晶体管.     

多晶硅发射区低温晶体管电流输运模型的理论分析

对于小尺寸的多晶硅发射区双极晶体管，该文在忽略基区与单晶发射区少子复合的条件下，根据单晶与多晶硅界面复合与隧穿等不同机制的共同作用、建立了发射区注入电子电流Ｊｎ和基区注入空穴电流Ｊｐｓ的一维非线性解析模型。该模型可适用于低温和不同的注入偏置条件，对低温双极器件交直流性能的模拟既快速方便，同时精度也较高，可作为低温器件多维数值模拟的重要补充以指导其优化设计。     

硅晶体管禁带宽度的测定方法

禁带宽度是硅晶体管的一个重要物理参数.本文提出了根据晶体管发射结pn结反向饱和电流在发射区部分的温度特性和集电结正向偏置电压的温度特性,利用线性外推法确定硅晶体管各区域禁带宽度的新方法.由于发射区重掺杂,本文还考虑了载流子的简并情况.     

双极型晶体管发射区有效杂质分布的温度关系

从理论上研究了双极型晶体管发射区中有效杂质分布N_(Eeff)在不同温度下与发射区浓度N_E的关系,结果表明:常温和高温时,N_(Eeff)随N_E的增大而上升;在低温下,N_(Eeff)则随N_E的增大而下降,而在某一特殊温度时N_(Eeff)将与N_E无关,这将为双极晶体管提供设计依据.     

抑制晶体管有源寄生效应研究

利用基尔霍夫电流定律修正双极晶体管的EM(Ebers-Moll,EM)模型,使得它适合描述4层结构的数字集成晶体管.利用数学软件MathCAD,对获取的EM模型数据作无近似处理.通过观察流经各个PN结的电流变化,可以研究数字晶体管在不同工作状态下寄生晶体管的效应.从而作为改善高集成情况下寄生效应的理论依据.     

一种高线性度的电流调节式CMOS中频可变增益放大器

基于模拟乘法器设计了一种电流调节式中频可变增益放大器,并根据强反型下MOSFET的I-V模型(考虑二阶效应)建立和分析了电路非线性模型,提出了一种线性度优化方法.基于0.25 μm CMOS工艺的模拟结果表明,电源电压3.3 V下可变增益放大器与优化前相比在输入信号最大时IM3减小了33 dB,增益控制范围增大了12 dB;最小增益处ⅡP3达到17.5 dBm,最大增益处噪声系数为7.8 dB.     

基于Monte Carlo分析的CC Ⅱ状态变量滤波器设计

论述了采用CMOS晶体管构建CCⅡ(第二代电流传输器)的基本原理与应用.采用CCⅡ分层模块形式进行了电流模式多功能状态变量滤波器的设计、建模与仿真.通过Hspiee对内部CMOS模型及外部元件参数进行了参数容差的MonteCarlo分析和功能验证.仿真结果与理论分析一致.与同类电路比较,该系列电路结构简单,便于集成.     

小尺寸功率VDMOS晶体管中准饱和效应的研究

分析了功率VDMOS晶体管在小尺寸时准饱和效应的成因,并对其进行了理论证明和模拟验证.研究结果表明,在晶体管导通状态下,由于寄生JFET电阻R_j和MOS沟道电阻R_ch的分压作用,致使在MOS沟道内载流子漂移速度由饱和变为不饱和,而在寄生JFET沟道中载流子漂移速度由不饱和变为饱和,造成器件在高栅源电压V_GS时,器件漏端电流I_DS大小与栅源电压V_GS无关,从而形成准饱和效应.     

晶体管接收机中大信号堵塞和强干扰信号阻塞

晶体管接收机容易产生大信号堵塞干扰信号阻塞的主要原因是晶体管动态范围小与非线性失真大。提高晶体管接收机抗大信号堵塞和强干扰信号阻塞能力的基本途径是采用场效应应晶体管，合理分配各级增益，减弱和减少了干扰电压的强度和个数等。     

基于单电子晶体管的脉冲神经元模型

从脉冲神经元脉冲收发的需求出发,研究发现电流脉冲与单电子晶体管的库伦震荡之间的相似性,利用这种相似性提出基于单电子晶体管的脉冲神经元模型,设计出单电子电路模型并用PSPICE进行模拟仿真. 仿真结果表明,该脉冲神经元模型能满足Izhikevich脉冲神经元模型规则脉冲的要求,实现电流脉冲的输入输出,具有脉冲编码的能力.     

HBT的PN结偏移效应

采用流体动力学输运模型详细分析了发射区ＰＮ结偏移对ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓＨＢＴ器件性能的影响，提出了器件优化设计的原则，在等和小的偏压下为了提高，β，ＰＮ结应向宽禁带层偏移，而为了得到大电流下的大电流放大倍数则应采用ＰＮ结是质结对准的结构。     

器件钝化中的应力中心和应力补偿效应

半导体器件的表面钝化是器件自身的稳定性和可靠性所必需.然而器件衬底和表面氧化膜之间常因热学性质不匹配而产生较大的应力,如高温氧化后的硅片中的张应力^[1].由于Si-SiO₂界面的应力增加了结构内部的缺陷,使器件的电流增益β明显下降.     

深扩散和表面减薄改善硅扩散结太阳电池性能的可能性

前表面复合速度对硅扩散结太阳电池性能的影响已经由许多作者进行过研究^[1~7].     

硅光伏测量电池的设计原理

讨论了硅光伏测量电池的设计原理.还讨论了掺杂浓度、结深和表面复合速度对光伏电池主要参数(如开路电压、短路电流、反向暗电流和光谱响应)的影响.为了应用的需要,分析了串联电阻和傍漏电阻对线性的影响.最后给出了温度效应的数学模型和典型电路设计与R_(sA)的关系.     

微波针灸仪的设计与针刺时微波功率从生物体内反射的测量

我们于1978年研制成功可实用的全固化W-1(图1)及W-1A型微波针灸仪共三套^[1],该年10月通过全套例行试验^[2],并获得医院的疗效观察报告^[3].1979年《电子科学技术》杂志对此作了简短报导^[4].1980年^[5]及1981年提出的新型号,无论频率选择、方案确定,均以W-1A型的设计及电路为兰本.     

硅中电离率与有效多数载流子浓度的温度关系

该文研究了重掺杂引起的禁带变窄效应对电离率与有效多功流子浓度的影响；建立了从７７Ｋ到３００Ｋ广为适用的数学模型，获得的计算结果在轻掺杂时与已有的计算数据相一致；而在重掺杂时，解决了已有文献未能解决的难题；杂质电离率随掺杂浓度的增大而上升的定量计算。     

降低Si基有机光电探测器暗电流的研究

报道了以P型Si单晶为衬底,在其表面真空蒸发有机半导体材料苝四甲酸二酐（PTC-DA）,由此制作的异质结PTCDA/P-Si（有机/无机）光电探测器,通过Si单晶表面处理及衬底温度的控制可降低其暗电流提高灵敏度的方法.