非晶共聚体PMA0.1PMMA0.9的布里渊散射

在_0.110~0.510cm^-1波数范围和15~170℃温度区间研究了非晶共聚体PMA_0.1PMMA_0.9的布里渊光谱.     

基于FTIR技术的食用植物油快速鉴别

基于傅里叶变换红外光谱法（Fourier transform infrared spectroscopy, FTIR）,研究了5类食用植物油（菜籽油、玉米油、葵花籽油、花生油和棕榈油）的快速鉴别方法。通过5种食用油的FTIR光谱分析,选择了1 162和1 463 cm^-1,1 747和2 852 cm^-1两组特征吸收峰面积比值,结合2 910 cm^-1附近的特征吸收峰位偏移,给出了5种食用油样品的三维分布图,从而实现了对这5种食用油的快速分析鉴别,对其他多种食用油的快速分析鉴别具有很好的借鉴价值和应用前景。     

基于FTIR技术的食用植物油快速鉴别

基于傅里叶变换红外光谱法（Fourier transform infrared spectroscopy, FTIR）,研究了5类食用植物油（菜籽油、玉米油、葵花籽油、花生油和棕榈油）的快速鉴别方法。通过5种食用油的FTIR光谱分析，选择了1 162和1 463 cm^-1,1 747和2 852 cm^-1两组特征吸收峰面积比值，结合2 910 cm^-1附近的特征吸收峰位偏移，给出了5种食用油样品的三维分布图，从而实现了对这5种食用油的快速分析鉴别，对其他多种食用油的快速分析鉴别具有很好的借鉴价值和应用前景。     

钴镍共掺TiO2纳米薄膜的物理化学性质研究

利用涂覆提拉法从钴镍的TiO2反胶束纳米溶胶中制备钴镍共掺TiO2纳米薄膜,用原子力显微镜(AFM)和紫外-可见光谱对钴镍共掺TiO2纳米薄膜的形貌和光谱性质进行表征测试.结果表明,钴镍共掺扩宽了TiO2的光响应范围,提高了光学活性,掺杂1.5％钴镍的TiO2薄膜的平均粗糙度和比表面积最大以及紫外可见光吸收最强.热处理发现,与500C热处理温度相比,700C热处理的钴镍共掺TiO2薄膜有优越的光学活性.     

In1-xAlxAs/GaAs一维超点阵结构的X射线衍射和Raman散射研究

用同步辐射和CuKα X射线衍射方法对In_1-xAl_xAs/GaAs一维超点阵结构进行对比式研究.从低角衍射数据求得超点阵的周期Λ,由GaAs(002)附近衍射数据求得各结构参数.对两种光源的衍射结果进行了分析和比较.解释了该超点阵的Raman散射谱,发现在Ga_1-xAl_xAs混晶谱中不存在的275cm^-1峰.     

a-Si∶H薄膜的激光诱导结晶

利用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统制备了a-Si:H薄膜.使用KrF准分子脉冲激光对a-Si:H薄膜进行辐照,使a-Si:H晶化.拉曼散射谱和电子衍射谱的结果表明经过激光辐照后在a-Si:H层形成纳米硅颗粒.     

硅与反应溅射二氧化硅界面特性的研究

本文对反应溅射SiO₂薄膜作了红外光谱研究,发现反应溅射法所获得的SiO₂薄膜中,硅与氧的反应并不完全.我们认为这是造成它与硅之间界面态密度升高的原因之一.为了改善Si与反应溅射SiO₂薄膜的界面特性,将溅射在硅片上的SiO₂薄膜,在含CCl₄的气氛中于950℃温度下进行氧化与退火处理.结果使Si-SiO₂的界面特性大大改善,对于n型(100)晶向的硅片其界面态密度下降到5.3×10¹⁰cm^-2·V^-1.以此SiO₂薄膜作为栅,成功地制出了MOS场效应晶体管.     

洁净低温凝聚膜的制备

近年来,人们开展了对非晶态金属的电学性能研究^[1,2];特别是对非晶态的超导电性的研究日益增多^[3~5].但是在实验工作中,非晶态样品大多采用单辊急冷技术制备,其厚度在几十微米数量级,属于"大块"金属样品的范畴.为了探讨处于非晶状态薄膜的电性能,并消除杂质(包括氧化)对非晶薄膜的影响,我们曾在超高真空及低温条件下用蒸发和低温凝聚方式制备了薄膜,并测量了它们的电阻与温度的关系.     

溅射压强对WSe2纳米薄膜形貌及光电性能的影响

采用射频（RF）磁控溅射技术在Si（100）衬底上制备WSe₂纳米薄膜，研究在不同制备压强（2.0、2.5、3.0 Pa）下WSe₂纳米薄膜的形貌及光电性质变化.采用扫描电子显微镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、光致发光谱（PL）、霍尔效应等测试对薄膜样品进行基本性质表征.SEM测试结果表明：溅射压强的改变对薄膜形貌有显著影响，随着压强的增加“蠕虫”状结构更加明显.进一步研究WSe₂的生长取向，XRD测试结果表明WSe₂薄膜在（008）晶面优先生长，证明压强的不同会改变WSe₂的晶体结构，提高其结晶性和光吸收特性.此外电学性能测试表明，WSe₂纳米薄膜的载流子浓度和霍尔系数可以通过改变压强来调节.体现了磁控溅射技术制备的WSe₂具有可控性好，易于重复等优点，在构建多功能WSe₂器件领域中具有很好的应用前景.     

多铁性铁酸铋BiFeO_3薄膜材料的纳米力学性质研究

采用脉冲激光沉积法制备了多铁性铁酸铋(Bi Fe O3)薄膜材料,通过原子力显微镜(AFM)对其表面形貌和压电响应性质进行了表征。同时,利用基于原子力显微镜的定量纳米力学成像技术(QNM)对铁酸铋薄膜材料纳米尺度的力学性质进行研究,突破了传统力学性质测量设备低空间分辨率的限制,获得了Bi Fe O3薄膜材料中菱形相和四方相的杨氏模量。     

不同功率激光激发下多孔硅拉曼光谱研究

利用阳极氧化化学腐蚀法得到多孔硅样品,在632.8 nm激光激发下,对多孔硅的拉曼光谱随激光功率的变化进行了研究,分别得到了520cm-1和300 cm-1附近的拉曼光谱图.发现在520 cm-1附近,激光功率较低时,多孔硅的拉曼光谱主要表现为略低于520cm-1的尖锐单峰,随激光功率的增大,拉曼峰出现红移和不对称展宽...     

液晶Langmuir—Blodgett膜的热电效应

介绍使用水平提拉法制备非中心对称的液晶Langmuir-Blodgett(LB)膜.吸收光谱和形貌观察表明LB膜中液晶分子以聚集体的方式存在,LB膜的静态热电系数为10~(-11)C·cm~(-2)·K~(-1)量级.同时讨论了LB膜结构变化对静态热电系数的影响.     

LB膜的原子力显微镜观测：从微米至分子量级

应用原子力显微镜（ＡＦＭ）直接观测沉积在固体表面的硬脂酸ＬＢ膜微观结构，范围从微米－纳米－分子量级．ＡＦＭ图象直接表征了膜的表面形貌、微观结构以及膜中存在的缺陷．实验中首次获得了较清晰、重复性好的硬脂酸分子结构ＡＦＭ图象．将ＡＦＭ探针作工具，通过增大针尖与样品间的作用力和控制扫描方式，有能力在ＬＢ膜表面微区进行直接的细微划刻，产生出特定的图形．实验中利用该方法直接测定了单分子膜的厚度．     

低能量PLD方法沉积的a—C薄膜结构及光学性能研究

用低能量脉冲激光沉积（PLD）方法在单晶硅片、石英玻璃片、载玻片等基底材料上分别沉积了一层碳膜、X射线衍射谱膜为非晶态,喇曼散射实验表明膜无明显类金刚石特征,紫外－可见分光光度计测试结果表明：膜在紫外、可见光区折射率低于石英、玻璃等材料,红外透过率谱显示膜在红外区有宽范围,显著增透作用。     

离子束动态混合氮化钛薄膜生长及其组分和结构分析

用电子束蒸发沉积钛和40keV氮离子束轰击同时进行的动态混合方法制备了氮化钛薄膜.RBS组分分析结果表明,离子束动态混合制备的氮化钛薄膜中的氧含量比不用离子束轰击的显著减少,薄膜的组分与离子原子到达比关系不大,主要受长膜过程中吸附效应的影响.随着蒸发沉积速率的提高,膜中氮含量下降,提高样品温度可获得同样效果.采用TEM和XRD对薄膜的结构进行分析测定,发现离子束动态混合制备的氮化钛薄膜主要由面心立方结构的TiN相构成,晶体取向随离子原子到达比(N/Ti)的增加,由<111>择优取向变到无择优的随机取向,然后再转变到<200>择优取向,合成的氮化钛薄膜具有良好的抗磨损性能,划痕试验表明薄膜与基体间结合力极强,临界载荷达10-15kg.     

氩离子辅助轰击对激光烧蚀法制备非晶碳膜的影响

离子辅助轰击能有效改善非晶碳 (a -C)膜的质量 .用脉冲激光 ( 5 32nm ,3.5× 10 8W cm2 )烧蚀石墨靶 ,同时用Ar+轰击膜面 ,在Si( 10 0 )衬底上沉积a -C膜 .用扫描电镜和喇曼光谱对膜结构作了分析 .结果表明 :在较低气压和较高的射频功率下制备的a -C膜质量较好 ,同时 ,激光重复频率对膜生长也有显著影响     

电压对氮掺杂TiO_2/Ti光催化剂在可见光下催化性能的影响

为拓展TiO2对可见光的响应范围,采用先恒流再恒压的阳极氧化法制备了TiO2/Ti光催化剂,并运用等离子体基离子注入(PBII)技术对TiO2/Ti光催化剂进行了氮的掺杂改性研究。通过SEM和XRD对不同电压下制备的氮掺杂TiO2/Ti光催化剂进行了分析。结果表明,TiO2氧化膜粗糙多孔,主要是由锐钛矿相和金红石相组成,其最佳的制备电压为160V,离子注入条件为-30kV,4×105N.cm-2。氮元素主要以三种形态存在于TiO2的薄膜上,即原子β-N、分子γ-N和O-Ti-N。在可见光的照射下与未掺杂的TiO2/Ti光催化剂相比,氮掺杂的TiO2/Ti光催化剂表现出较好的光催化活性,其对罗丹明B的去除效率提高了12%。     

酞菁锌升华膜的制备及其NO2气敏性研究

利用真空升华法制得酞菁锌(ZnPc)薄膜,与ZnPc溶液相比较,电子吸收光谱谱带明显变宽,且Q带吸收峰分别红移了22nm,表明ZnPc分子在基片上以J-聚集体存在;红外光谱谱图基本相似,表明分子基本呈无序状态,ZnPc薄膜为无定形.气敏性研究表明ZnPc升华膜对NO2气体的灵敏度与成膜时蒸镀电流和蒸镀时间均有关系,当电流控制在85A蒸镀时间1.5h时,所得ZnPc薄膜室温下对浓度为50.0mg/m3的NO2气体的灵敏度达到2300,而对醇类、SO2、Cl2等气体几乎不响应,表现出对NO2气体特殊的选择性.     

ZnO薄膜发光特性的实验研究

室温下测量了以石英为衬底的ZnO薄膜的吸收光谱及发光光谱,从谱图可以看出,样品具有较好的结晶状态.另外,样品在紫外有较强的吸收,而其光致发光也是较强的紫外发射,这表明带间跃迁占了主导地位.     

应用于超大规模集成电路的新材料WSi2的快速热退火形成

用喇曼散射、扫描电镜、转靶X射线衍射、俄歇电子能谱和电阻率的测量研究了共溅射W-Si薄膜经真空15秒快速热退火后形成WSi_2的行为.在331和450cm~(-1)处有两个WSi_2的特征喇曼峰.随着快速热退火温度的升高,WSi_2的晶化不断增强.发现WSi_2中伴有W_5Si_3相存在,但其行为仍显示为WSi_2的特征.