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1.
给出了包括解析式外基区电阻和从SEDAN程序计算得到的基区Gummel数在内的内基区电阻的计算.结果表明该电阻与光敏区面积、发射区边长、发射区位置、发射极电流等因素有关.方形光敏区中发射极的最佳位置在中心;光敏区边长对发射区边长的最佳比值是7.578425:1.这些结果将被用于设计低噪声和高频光电晶体管. 相似文献
2.
分析了硅浅杂质能级的低温陷阱效应,给出了p型硅中不同注入水平下导带中注入电子与总电子数目之比no/nT的表达,主要结果表明在低注入条件下,浅杂质能级陷阱效应对于低温下双极器件的频率特性有着巨大影响,而在高注入水平下,由于总的注入电子数目大大超过被陷电子数目,从而克服了这一低温陷阱效应,可以忽略。 相似文献
3.
从理论上研究了双极型晶体管发射区中有效杂质分布N_(Eeff)在不同温度下与发射区浓度N_E的关系,结果表明:常温和高温时,N_(Eeff)随N_E的增大而上升;在低温下,N_(Eeff)则随N_E的增大而下降,而在某一特殊温度时N_(Eeff)将与N_E无关,这将为双极晶体管提供设计依据. 相似文献
4.
HBT的PN结偏移效应 总被引:1,自引:0,他引:1
采用流体动力学输运模型详细分析了发射区PN结偏移对AlGaAs/GaAsHBT器件性能的影响,提出了器件优化设计的原则,在等和小的偏压下为了提高,β,PN结应向宽禁带层偏移,而为了得到大电流下的大电流放大倍数则应采用PN结是质结对准的结构。 相似文献
5.
在常规BiCMOS技术基础上,该文充分考虑了低温下MOS电流驱动能力增强,双极器件增益与频率性能退化,PN结正向导通电压增加和结电容减小等因素的影响,并由此建立起统一的低温BiCMOS数字电路延迟时间的非线性解析分析模型,所得到的有关结论对低温超高速BiCMOS电路的优化设计有现实的指导意义。 相似文献
6.
研制了磷穿过热生长薄氧化层扩散形成发射区的高频集成漂洗发射极晶体管.从与常规晶体管比较的角度,研究了这种新型的漂洗发射极晶体管的直流特性、电流增益与集电极电流及温度的关系、发射区禁带变窄效应和表面复合效应对增益的影响,并比较分析了两者的磷杂质纵向分布. 相似文献
7.
基于载流子电导是空间电荷限制与空间电荷在器件内部指数减小的假设,通过引入电荷空间分布的特征长度及有效迁移率,并考虑注入电流为热电子电流和隧穿电流,由此对器件的输运特性进行了详细讨论.结果表明电荷空间分布的特征长度对器件中的载流子浓度、电场强度及电流有很大影响;器件功能层厚度对器件的电场强度影响较大,对器件I-V特性影响不大. 相似文献
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<正> 一、半导体器件的一颗新星 VMOS管是1976年才问世的一种新型半导体器件,它是在集中了电子管,双极型晶体管和单极型晶体管优点的基础上做成的,其优点主要表现在:输入阻抗高(约为10~8Ω以上),是电压控制器件,向信号源索取的功率甚微;开关速度快(开关时间为ns级):工作频率范围宽而高;反馈电容小;无热失控或二次击穿,具有负的电流温度系数;低的开启(或导通)电压;转移特性曲线的线线性好以及高的跨导等。因此,它是继双极型和单极型管之后,又一种具有开拓型的有源半导体器件,尤其是它的大电流和电流负温度系数,使它成为发展大功率器件的佼佼者。它的出现,引起了电子工业世界的极大兴趣,也被誉为是一种比较理想的有源器件。 相似文献
10.
针对小功率双极晶体管进行的存寿命试验和噪声测试结果表明,该器材在储存条件耻的主要失效模式是电流放大数β的退化。β随时间的减少量与其初始1/f噪声电流具有强相关性,近似呈对数正比关系,由此提出了利用1/f噪声测量对双极晶体管储存寿命进行快速无损评价的新方法。 相似文献
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13.
讨论了硅光伏测量电池的设计原理.还讨论了掺杂浓度、结深和表面复合速度对光伏电池主要参数(如开路电压、短路电流、反向暗电流和光谱响应)的影响.为了应用的需要,分析了串联电阻和傍漏电阻对线性的影响.最后给出了温度效应的数学模型和典型电路设计与R_(sA)的关系. 相似文献
14.
采用硫酸-草酸混酸溶液作为电解液,对纯铝片进行直流阳极氧化,研究了氧化时间、电流密度、超声波等因素对阳极氧化膜微观结构的影响,采用SEM、XRD、EDS等方法对阳极氧化膜的微观形貌、成分和结构进行了分析.结果表明,氧化时间对氧化膜表面微观结构的影响主要体现在随着氧化时间的延长,氧化膜表面的微孔形状越来越规则地发生变化,电流密度对阳极氧化膜表面微孔的分布情况影响较大,当电流密度超过15mA·cm-2时氧化膜表面的微孔数量有所增加,但不规整;将超声波作用于阳极氧化过程中,阳极氧化膜有晶体结构出现,经检测分析为Al2O3晶体. 相似文献