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超光滑光学表面广泛地应用在短波段光学领域,如同步辐射光束线的反射镜、软X射线波段的多层膜基底等.其表面的粗糙度通常要求小于0.5nmRMS.目前粗糙度好于0.5nmRMS的光学表面是采用特殊磨料,用非常规方法加工的,其缺点是工艺难度大,技术要求高,抛光的均匀性也难以保证.把离子束刻蚀技术用于超光滑表面的抛光这一加工方法,不仅可以提高抛光质量,而且大大提高了工作效率,并确保了工艺的稳定性和抛光的均匀性. 相似文献